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電子束物理氣相沉積系統(tǒng)（EB-PVD）產(chǎn)品概述:電子束物理氣相沉積系統(tǒng)EB-PVD技術(shù)是以電子束作為熱源的一種蒸鍍方法，即利用高速運(yùn)動(dòng)的電子轟擊靶材表面，使材料升溫變成蒸汽而凝聚在基材表面的一種表面加工方法
電子束物理氣相沉積系統(tǒng)EB-PVD技術(shù)是以電子束作為熱源的一種蒸鍍方法，即利用高速運(yùn)動(dòng)的電子轟擊靶材表面，使材料升溫變成蒸汽而凝聚在基材表面的一種表面加工方法。被廣泛用于制備熱障涂層、耐磨耐蝕涂層、高溫合金等鍍層材料，在航天航空領(lǐng)域有廣泛的用途。
電子束物理氣相沉積系統(tǒng)（EBPVD）
1）蒸發(fā)速率較高，幾乎可以蒸發(fā)所有物質(zhì)，可制備任意成分的鍍層材料。
2）電子束電流大小易于調(diào)節(jié)，束斑形狀、尺寸和位置易于控制，有利于精確控制鍍層的厚度。
3）整個(gè)過(guò)程是在真空中進(jìn)行的，可以防止鍍層材料被污染或氧化。
4）在控制好工藝的條件下，可使鍍層材料與靶材中的相和元素含量保持一致，可以精確控制鍍層材料的化學(xué)組分。
5）蒸汽粒子在基材表面結(jié)晶生長(zhǎng)，使鍍層材料和基材具有良好的結(jié)合力。
6）工藝參數(shù)：
參數(shù)名稱(chēng) | 數(shù)值 |
1圓柱形零件尺寸，mm,不大于: - 直徑 - 長(zhǎng)度 |
220 750 |
2. 零件在水平桿上旋轉(zhuǎn)速度，轉(zhuǎn)/分鐘 | 1-25 |
3. 坩堝數(shù)量，件 | 3 |
4. 坩堝內(nèi)直徑，mm | 70 |
5. 蒸發(fā)靶材長(zhǎng)度，mm,不大于 | 500 |
6. 靶材進(jìn)給速度，mm/min,范圍 | 0,5 – 350 |
7. 坩堝上表面到零件旋轉(zhuǎn)軸或者沉積面的距離，mm | 350 |
8. 電子槍數(shù)量及額定功率，n х kw: - 用于坩堝蒸發(fā)材料 - 用于預(yù)加熱零件 電子槍類(lèi)型-冷陰極氣體放電 | 3х100 1х30 |
9. 使用功率，KW,不超過(guò) - 變壓器 - 輔助設(shè)備 |
450 80 |
10. 額定工作加速電壓，kw | 30 |
11. 工作真空度，Pa(Torr),范圍 | 6х10-3 – 6х10-2 (5х10-5 – 5х10-4) |
12. 額定三相交流電電源電壓 50Hz, V | 380 |
13.水冷壓力，Pa(kg/cm2) 范圍 | 3х105 – 4х105 (3 – 4) |
14. 水冷流量（溫度150С），m3/h，不超過(guò) | 15 |
15. 熱水壓力(60 – 800С), Pa(kg/cm2),范圍 | 3х105 – 4х105 (3 – 4) |
16. 熱水流量，m3/h，不超過(guò) | 0,5 |
17. 壓力4х105 – 5х105 Pa時(shí)空氣流量，m3/h，不超過(guò) | 1 |
18.: 設(shè)備總體尺寸, mm,不超過(guò) -長(zhǎng)度 -寬度 -高度 |
11500 8500 4000 |
19. 設(shè)備質(zhì)量（帶電源），t,不超過(guò) | 21,7 |
涂層例
1）如燃?xì)獍l(fā)動(dòng)機(jī)葉片: 恢復(fù)（修復(fù)）葉片，延長(zhǎng)其壽命
左邊-無(wú)涂層 中間-帶金屬涂層 右邊-帶雙層金屬/陶瓷涂層
2）帶有電子束及等離子涂層保護(hù)的燃汽輪機(jī)各種類(lèi)型葉片及其他零件
3）用于提高燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)鈦葉片壽命的電子束高阻尼硬性涂層
從無(wú)涂層葉片（1）與有30微米厚的防護(hù)涂層（2）葉片振動(dòng)對(duì)數(shù)遞減振幅關(guān)系曲線(xiàn)看出，帶涂層的葉片阻尼水平比無(wú)涂層葉片高2-4倍。
50微米薄壁鈦葉片高阻尼硬性材料的涂層沉積，可降低其共振振幅(動(dòng)力應(yīng)力范圍）9倍，這樣可顯著延長(zhǎng)燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)鈦葉片壽命及提高其整體使用的可靠性。
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