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廣東國玉科技股份有限公司
參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地佛山市
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更新時間:2024-11-16 04:16:41瀏覽次數(shù):83次
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廣泛應(yīng)用于Si基Wafer表面缺陷、針孔檢測,透明基板表面顆粒缺陷檢測,2D圖形檢測(表面顆粒、劃傷、DIE丟失、破裂、崩邊) 2D關(guān)鍵尺寸檢測(Pad邊界、關(guān)鍵位置尺寸) 3D Bump檢測。
適用產(chǎn)品 / Applicable Product
廣泛應(yīng)用于Si基Wafer表面缺陷、針孔檢測,透明基板表面顆粒缺陷檢測,2D圖形檢測(表面顆粒、劃傷、DIE丟失、破裂、崩邊) 2D關(guān)鍵尺寸檢測(Pad邊界、關(guān)鍵位置尺寸) 3D Bump檢測。
技術(shù)特點 / Standard Functions
支持Die2Die 檢測,同時支持線寬測量及套刻測量三合一
表面缺陷檢測能力可達(dá)0.3um
自動檢測無需人工建立Golden Image
單機(jī)支持Bright Field,Dark Field 缺陷檢測模式
靈活高效多種方式的缺陷Review和自動缺陷分類
多種算法聯(lián)合檢測,缺陷識別率高
支持單層圖形和多層圖形檢測,及自定義區(qū)域檢測
業(yè)界的高速準(zhǔn)確的整版Die檢測
高精度線寬量及套刻尺寸測量系統(tǒng)
多種波長檢測光源適配530nm,405nm和365nm
自動腳本Recipe編程能力和自動化運行
安裝條件 / Optional Functions
整機(jī)尺寸 | 1868*1129*1976mm | 設(shè)備重量 | 1500KG |
峰值功率 | 2KW | 電源 | 220V 50Hz |
壓縮空氣 | 0.45Map | 真空 | -65~100Kpa |
EFU | 0.13μm | 內(nèi)外部壓差 | >4Pa |
靜電消除 | 離子風(fēng)棒*2 | UPS | 選配 |
安全性 | 機(jī)械手EMO、整機(jī)EMO、安全門傳感器、磁力鎖 | 內(nèi)部潔凈等級 | Class10 |
標(biāo)準(zhǔn)符合性 | CE、SEM、S2、S8、S22 |
技術(shù)參數(shù) / Technical Parameters
指標(biāo) | 規(guī)格 | |
Wafer尺寸 | 4″6″8″ / 6″8″12″ | |
上下片方式 | 機(jī)械手上下片/Mapping掃描/預(yù)對準(zhǔn) | |
運動平臺 | 隔震平臺 | 大理石平臺+隔震,滿足VC-C級別震動要求 |
Wafer Stage | XY行程:300*450 ,重復(fù)精度:50nm單軸 速度:900mm/sec 驅(qū)動及反饋:直線電機(jī)+Ranishaw(Tonic)光柵 | |
Chuck | 真空吸附 | |
檢測精度 | BF 最?。?00nm | DF 最小:100nm |
產(chǎn)能 | 4″<60WPH | 6″<40WPH ,8″<25WPH , 12″<15WPH |
光學(xué)系統(tǒng) | 光路系統(tǒng) | 雙光路線陣+面陣成像系統(tǒng),線陣用于快速掃描,面陣用于對準(zhǔn)及Review |
相機(jī) | 多線:3200*1Pixel:7nm 面陣2/3彩色CCD | |
鏡頭 | 根據(jù)具體的樣品配置 可提供2X、3.5X、5X、10X、20X、50x、100X等規(guī)格 | |
光源 | LED反射光、激光暗場照明、環(huán)形光源 |
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