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PE100RIE等離子刻蝕系統(tǒng)

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產(chǎn)品簡介

PE100RIE等離子刻蝕系統(tǒng) PE100RIE系統(tǒng)是以一個(gè)高強(qiáng)度真空室為基礎(chǔ)，真空室內(nèi)的電極可對幾乎所有的材料進(jìn)行處理，并屏蔽真空室內(nèi)的靜電以保護(hù)樣品。

詳細(xì)介紹

PE100RIE等離子刻蝕系統(tǒng)

特點(diǎn)：

等離子刻蝕，是干法刻蝕中見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。某種程度來講，等離子清洗實(shí)質(zhì)上是等離子體刻蝕的一種較輕微的情況。進(jìn)行干式蝕刻工藝的設(shè)備包括反應(yīng)室、電源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反應(yīng)室，氣體被導(dǎo)入并與等離子體進(jìn)行交換，等離子體在工件表面發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)的揮發(fā)性副產(chǎn)物被真空泵抽走。等離子體刻蝕工藝實(shí)際上便是一種反應(yīng)性等離子工藝。近期的發(fā)展是在反應(yīng)室的內(nèi)部安裝成擱架形式，這種設(shè)計(jì)的是富有彈性的，用戶可以移去架子來配置合適的等離子體的蝕刻方法：反應(yīng)性等離子體（RIE），順流等離子體（downstream），直接等離子體（directionplasma）。

PE公司為幾乎所有的等離子處理應(yīng)用提供了*的設(shè)備，我們很自豪地說，我們的等離子蝕刻系統(tǒng)在各個(gè)行業(yè)應(yīng)用中表現(xiàn)優(yōu)異。我們在控制離子密度，電子溫度，和等離子體電位等核心技術(shù)上擁有豐富的實(shí)際經(jīng)驗(yàn)，通過幾個(gè)擁有的關(guān)鍵技術(shù)，可以保證獲得非常均勻的等離子體蝕刻的效果。

我們的系統(tǒng)是以一個(gè)高強(qiáng)度真空室為基礎(chǔ)，真空室內(nèi)的電極可對幾乎所有的材料進(jìn)行處理，并屏蔽真空室內(nèi)的靜電以保護(hù)樣品?？諝饣驓怏w通過控制閥進(jìn)入室內(nèi)，與樣品進(jìn)行反應(yīng)，所產(chǎn)生的廢氣通過真空泵迅速抽離。所使用的氣體的類型取決于蝕刻工藝。四氟化碳（CF4）和氧氣是常用的氣體腐蝕。

等離子體應(yīng)用強(qiáng)大的RF（射頻）系統(tǒng)產(chǎn)生13.56MHz電極的電磁場。通過射頻發(fā)生器產(chǎn)生的振蕩的電場和電離作用，氣體分子獲得剝離的電子。正離子因?yàn)殡妷翰顣?huì)移向樣品，然后與被蝕刻的樣品碰撞，并與有機(jī)材料在樣品表面化學(xué)反應(yīng)。離子還可以通過轉(zhuǎn)移它們的動(dòng)能來去除某些物質(zhì)。電子以震蕩的形式在真空室內(nèi)運(yùn)動(dòng)，多余的電子會(huì)被室壁吸收，因?yàn)槭鞘冶谑墙拥氐模运麄兡鼙话踩膶?dǎo)出設(shè)備。

等離子體處理可應(yīng)用于所有的基材，甚至復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進(jìn)行等離子體活化和清洗。等離子體處理時(shí)的熱負(fù)荷及機(jī)械負(fù)荷都很低，因此，低壓等離子體也能處理敏感性材料。

關(guān)鍵詞：真空泵控制閥

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