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光學(xué)元件面型測(cè)量?jī)x

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Kaleo MultiWave 光學(xué)元件面型測(cè)量?jī)x是一臺(tái)多波長(zhǎng)工作的光學(xué)元件面形測(cè)試系統(tǒng)，用于替代昂貴、低效、操作復(fù)雜的干涉儀，測(cè)量光學(xué)元件的表面面形、透過(guò)波差等參數(shù)。

詳細(xì)介紹

Kaleo MultiWave 是一臺(tái)多波長(zhǎng)工作的光學(xué)元件面形測(cè)試系統(tǒng)，用于替代昂貴、低效、操作復(fù)雜的干涉儀，測(cè)量光學(xué)元件的表面面形、透過(guò)波差等參數(shù)。

Kaleo MultiWave 通過(guò)單次測(cè)量即可提供完整的3-D形貌及非平面元件的曲率。所有表面質(zhì)量參數(shù)尊崇ISO 10110標(biāo)準(zhǔn)。表面不規(guī)則，粗糙度以及波紋亦可測(cè)試。

Kaleo MultiWave的多波長(zhǎng)測(cè)試功能可以在光學(xué)元件設(shè)計(jì)的工作波長(zhǎng)進(jìn)行測(cè)試，從而對(duì)光學(xué)元件基底、鍍膜獲得完整的評(píng)價(jià)。儀器具備和傳統(tǒng)干涉儀同等的精度，同時(shí)具備更大的動(dòng)態(tài)范圍以測(cè)試復(fù)雜面形的光學(xué)元件。測(cè)試以雙程模式工作，兼容透射與反射測(cè)量。

多波長(zhǎng)干涉儀：

同一機(jī)臺(tái)，多個(gè)波長(zhǎng)

標(biāo)配：625nm - 780nm - 1050nm

可選：UV - 400nm - 1100nm - 短波紅外

高動(dòng)態(tài)范圍：

> 20um PV

高度畸變波前測(cè)試

高精度：

精度與干涉儀同等

高重復(fù)度，低噪聲

高性價(jià)比的干涉儀解決方案

規(guī)范：

遵從ISO 5725 標(biāo)準(zhǔn)

兼容MetroPro 格式

兼容 ISO 10110 格式

用途：

表面面形測(cè)試

鍍膜（AR，介質(zhì)膜，金屬膜測(cè)試......）

窗片，干涉濾光片測(cè)試

透鏡，非平面鏡測(cè)試

應(yīng)用：

光學(xué)元件研發(fā)制造

濾光片及窗片制造

空間及防務(wù)

汽車工業(yè)

激光器及其應(yīng)用

光學(xué)元件面型測(cè)量?jī)xKALEO MultiWave技術(shù)指標(biāo)：

光路結(jié)構(gòu)	雙通路
標(biāo)準(zhǔn)配置波長(zhǎng)	625, 780, 1050nm
可選波長(zhǎng)	400 - 1100nm，UV, IR
有效口徑	130mm
可重復(fù)性 (ISO 5725)	< 5nm rms
可再造性 (ISO 5725)	<7nm rms
動(dòng)態(tài)范圍 (失焦), RWE	10um PV
動(dòng)態(tài)范圍 (失焦), TWE	200nm rms
精度 (RWE)	<80nm rms
精度 (TWE)	<20nm rms

光學(xué)元件面型測(cè)量?jī)xKALEO MultiWave測(cè)試實(shí)例：

與Fizeau干涉儀測(cè)試結(jié)果的比較

NBP-780濾光片測(cè)試。二者測(cè)量RWE的偏差小于40nm P-V

非球面鏡3-D面形

單次測(cè)量，無(wú)需空白透鏡。可通過(guò)扣除理想曲面得知面形殘余誤差，從而獲知非球面鏡的加工質(zhì)量。

產(chǎn)線設(shè)備監(jiān)控

通過(guò)對(duì)塑料、樹脂模壓光學(xué)元件的直接測(cè)試，實(shí)時(shí)獲知加工效果，對(duì)模具狀態(tài)、工件調(diào)整精度等作出實(shí)時(shí)評(píng)價(jià)。

關(guān)鍵詞：模具

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