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LIBS激光誘導(dǎo)擊穿光譜分析儀

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LIBS激光誘導(dǎo)擊穿光譜分析儀不但適合實(shí)驗(yàn)室使用，同樣適合工業(yè)設(shè)備的集成；強(qiáng)大的設(shè)計(jì)提供非常低的溫度影響，使其能夠承受惡劣的環(huán)境，同時(shí)可任意方向安裝，以任何想要的方向來(lái)對(duì)準(zhǔn)樣品，不受場(chǎng)地及環(huán)境限制；

詳細(xì)介紹

LIBS是Laser-Induced Breakdown Spectroscopy （激光誘導(dǎo)擊穿光譜儀）的簡(jiǎn)稱，該技術(shù)通過超短脈沖激光聚焦樣品表面形成等離子體，利用光譜儀對(duì)等離子體發(fā)射光譜進(jìn)行分析，以此來(lái)識(shí)別樣品中的元素組成成分，進(jìn)而可以進(jìn)行材料的識(shí)別、分類、定性以及定量分析。

自從LIBS技術(shù)問世以來(lái)，該技術(shù)就被*為是一種前景廣闊的新技術(shù)，將為分析領(lǐng)域帶來(lái)眾多的創(chuàng)新應(yīng)用。LIBS作為一種新的材料識(shí)別及定量分析技術(shù)，既可以用于實(shí)驗(yàn)室，也可以應(yīng)用于工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)的在線檢測(cè)；

LIBS彌補(bǔ)了傳統(tǒng)元素分析方法的不足，尤其在微小區(qū)域材料分析、鍍層/薄膜分析、缺陷檢測(cè)、珠寶鑒定、法醫(yī)證據(jù)鑒定、粉末材料分析、合金分析等應(yīng)用領(lǐng)域優(yōu)勢(shì)明顯，同時(shí)，LIBS還可以廣泛適用于地質(zhì)、煤炭、冶金、制藥、環(huán)境、科研等不同領(lǐng)域的應(yīng)用。

除了傳統(tǒng)的實(shí)驗(yàn)室的應(yīng)用，LIBS還是為數(shù)不多的可以做成便攜裝置的元素分析技術(shù)，更是目前為止被認(rèn)為可以做在線分析的元素分析技術(shù)。這將使分析技術(shù)從實(shí)驗(yàn)室領(lǐng)域極大地拓展到戶外、現(xiàn)場(chǎng)、甚至生產(chǎn)工藝過程中；

Spectral Industries 推出的全新時(shí)間門控LIBS測(cè)量系統(tǒng)，是一套高效，功能強(qiáng)大，通用型強(qiáng)的LIBS測(cè)量系統(tǒng)，無(wú)論在實(shí)驗(yàn)室或戶外操作，均可*應(yīng)對(duì)各種測(cè)試環(huán)境，甚至其IRIS 光譜儀可用于空間環(huán)境！

LIBS激光誘導(dǎo)擊穿光譜分析儀具有如下特點(diǎn)及優(yōu)勢(shì)：

l 超高數(shù)值孔徑(F/2)：基于設(shè)計(jì)的IRIS 中階梯光柵光譜儀的其LIBS系統(tǒng)可以獲得優(yōu)于其他對(duì)手的優(yōu)質(zhì)信噪比；

l 使用中階梯光譜儀：兼顧高分辨率(0.1-0.4nm)及寬的光譜覆蓋范圍180-800nm,880-1100nm；

l 配備高效光學(xué)激光聚焦及信號(hào)收集系統(tǒng)：可以獲得更低的探測(cè)極限以及更短的積分時(shí)間;

l 使用優(yōu)選的全自動(dòng)控制的激光源以及3軸電動(dòng)位移臺(tái)：軟件全自動(dòng)控制，協(xié)調(diào)工作，同時(shí)保持OEM定制靈活性；

l <10ns 精確時(shí)延抖動(dòng)：有效避免韌致輻射背景噪聲干擾；

l 靈活小巧一體化的設(shè)計(jì)：不但適合實(shí)驗(yàn)室使用，同樣適合工業(yè)設(shè)備的集成；強(qiáng)大的設(shè)計(jì)提供非常低的溫度影響，使其能夠承受惡劣的環(huán)境，同時(shí)可任意方向安裝，以任何想要的方向來(lái)對(duì)準(zhǔn)樣品，不受場(chǎng)地及環(huán)境限制；

LIBS激光誘導(dǎo)擊穿光譜分析儀

Spectral Industries 的全套LIBS 系統(tǒng)包括：

l IRIS 中階梯光柵光譜儀

l 納秒脈沖主動(dòng)調(diào)Q激光器

l 用于門控LIBS 測(cè)量的脈沖延遲發(fā)射器

l 激光聚焦及信號(hào)收集光學(xué)系統(tǒng)

l 自動(dòng)控制-3軸電動(dòng)位移臺(tái)

l 軟件—全硬件控制，Matlab數(shù)據(jù)處理作圖；

LIBS 系統(tǒng)（未包括譜儀及樣品臺(tái)）

IRIS 中階梯光譜儀

SPECTRAL LIBS 系統(tǒng)指標(biāo)參數(shù)
光譜儀	IRIS UV(200-800nm)or IRIS-DUV(氮?dú)獯祾?/span>180-800nm,880-1100nm) 光譜儀
光學(xué)系統(tǒng)	高效激光聚焦及信號(hào)收集光學(xué)系統(tǒng)
激光器	可選擇不同單脈沖能量及頻率的主動(dòng)調(diào)Q 納秒脈沖激光器
脈沖延遲發(fā)生器	<10 ns抖動(dòng) ,100ns 時(shí)間延遲步距調(diào)整
位移臺(tái)	3軸電動(dòng)位移臺(tái)，50*50mm移動(dòng)范圍；（其他尺寸可選）
氣體吹掃	吹掃接口閥門適用于深紫外測(cè)試：<200nm波段；
工作距離	> 50-500 mm （更大距離可選）
激光聚焦光斑尺寸	<=100 µm

IRIS 中階梯光譜儀參數(shù)指標(biāo)
光譜范圍	180 - 800 nm and 880-1100nm (包括吹掃選項(xiàng))
光譜分辨率	0.1 - 0.45 nm (@ 180-800 nm, for 25 µm wide slit)
F-數(shù)值孔徑	f/2
狹縫尺寸	25 x 100 µm²(其他尺寸可選: 10 x 100 µm² ａnd 50 x 100 µm²)
波長(zhǎng)穩(wěn)定性	< 5 pm/K
尺寸	220 x 195 x 80 mm³ (包括相機(jī))
重量	3 kg (包括相機(jī))
相機(jī)	CMOS 探測(cè)器 (深紫外增強(qiáng)型),積分時(shí)間28 µs – 30 s