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刻蝕設(shè)備PlasmaPro1000 Astrea

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所在地區(qū)：上海上海市

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

刻蝕設(shè)備PlasmaPro1000 Astrea

詳細(xì)介紹

新型的PlasmaPro1000 Astrea刻蝕設(shè)備，該設(shè)備可以為PSS, GaN 和AlGaInP提供大批量刻蝕提供解決方案，有助于HBLED制造商提高良率和降低使用者成本。

該設(shè)備可以批量刻蝕55 x 2" 到 3 x 8"的晶片，設(shè)備的設(shè)計(jì)符合了HBLED材料嚴(yán)苛的化學(xué)要求。PlasmaPro1000 Astrea損耗低、產(chǎn)量高，以保證客戶芯片的光輸出。

該設(shè)備的高配置體現(xiàn)在，處理腔可作為獨(dú)立模塊或集群配置，也可升級(jí)為四面集群設(shè)備以支持三個(gè)生產(chǎn)模塊。

為確保該設(shè)備高稼動(dòng)率性和易維護(hù)性，它的主要特性和優(yōu)勢(shì)包括：

  • 行業(yè)，可處理直徑為690mm和高均勻性要求的等離子源。

  • 490mm的電極，可大批量處理55x2", 14x4", 7x6" 到3x8"尺寸的晶片

  • 高電導(dǎo)泵系統(tǒng)

  • 雙進(jìn)氣口使制程調(diào)整更順暢

  • 為晶片冷卻提供大夾具

  • Z字型的移動(dòng)方式確保晶片的均勻性

  • 硬件穩(wěn)定和易于維護(hù)，確保正常運(yùn)行時(shí)間


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