注塑廠廢氣處理設(shè)備原理

1.為了使設(shè)備壽命長等問題，我們?yōu)槟?梓昂高能離子催化設(shè)備，低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當(dāng)外加電壓達到氣體的著火電壓時，氣體分子被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達到降解污染物的目的。

2.為了使設(shè)備可連續(xù)運行或間斷式運行等問題，我們?yōu)槟?梓昂高能離子催化設(shè)備，反應(yīng)塔內(nèi)裝填特制的固態(tài)填料，填料內(nèi)部復(fù)配多介質(zhì)催化劑。當(dāng)惡臭氣體在引風(fēng)機的作用下穿過填料層，與通過特制噴嘴呈發(fā)散霧狀噴出的液相復(fù)配氧化劑在固相填料表面充分接觸，并在多介質(zhì)催化劑的催化作用下，惡臭氣體中的污染因子被充分分解。

3.為了使設(shè)備解決大氣污染等問題，我們?yōu)槟?梓昂高能離子催化設(shè)備，光催化是常溫深度反應(yīng)技術(shù)。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物*氧化成無毒無害的產(chǎn)物，而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術(shù)則需要在*的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要的高溫。

注塑廠廢氣處理設(shè)備優(yōu)勢

1、 結(jié)構(gòu)簡單，占地面積小，也可直接建于污染源的上方，不另外占用地方。

2、 反應(yīng)速度快，停留時間極短（僅為幾秒），處理效果好，控制反應(yīng)條件惡臭物質(zhì)可*被分解掉。

3、 啟動、停止十分快捷，即開即用，不受氣溫影響，沒有生物法復(fù)雜的生物馴化和培養(yǎng)過程，操作極為簡單，無需派專職人員看守。

4、 反應(yīng)過程只需用電，不用投加其他輔助藥劑和填料，因此節(jié)省藥劑和填料的采購、運輸、儲存、管理等一系列繁瑣的事務(wù)，可大大節(jié)省人力和運行費用。